晶體硅太陽電池片的生產(chǎn)中有一道程序叫做PECVD鍍膜，其作用是在硅片上沉積一層介質(zhì)薄膜，一般是氮化硅薄膜，硅片的太陽能轉(zhuǎn)化率。這個工序用石墨舟裝載硅片。把硅片放到石墨舟中，經(jīng)過一些的條件產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，在硅片表面沉積上一層薄膜。
石墨舟作為太陽能電池片沉積介質(zhì)薄膜時的一種載體,其結(jié)構(gòu)和大小直接影響硅片的轉(zhuǎn)換效率和生產(chǎn)效率，現(xiàn)有石墨舟包括：石墨舟片、套、桿、石墨桿、石墨隔塊等石墨配件。其工作原理為：將未鍍膜的硅片放在石墨舟片的卡點(diǎn)上，每個舟片上可放固定數(shù)量的硅片，然后，將石墨舟放置在PECVD真空鍍膜設(shè)備的腔體內(nèi)，采用PECVD工藝進(jìn)行放電鍍膜。鍍膜結(jié)束后，取出石墨舟，將硅片從石墨舟上卸取下來。
石墨舟片是組成石墨舟的重要組成部分，是用于固定鍍膜硅片的裝置。實(shí)際工藝中硅片插在石墨舟片上，完成鍍膜工藝。
在一個新石墨舟，或者經(jīng)過清洗的石墨舟，在做生產(chǎn)工藝之前要放到PECVD工藝腔體中做飽和工藝。飽和工藝是擬真實(shí)生產(chǎn)工藝環(huán)境，使石墨舟表面沉積一層介質(zhì)薄膜。經(jīng)過飽和的石墨舟在進(jìn)行生產(chǎn)工藝時，可以減少PECVD鍍膜引起的硅片內(nèi)及硅片間介質(zhì)層厚度和折射率不均勻產(chǎn)生的沉積薄膜不均勻從而產(chǎn)生基片內(nèi)顏色差異等問題。
除了空石墨舟飽和以外，還有一種飽和方法是將石墨舟插滿假片，假片可能是石墨或硅片或其他材料。目的是在飽和的時候，未來硅片覆蓋的區(qū)域不沉積介質(zhì)層。這樣可以進(jìn)一步鍍膜均勻性，從而提品的良品率，并延長石墨舟使用壽命。
然而，由于通常所鍍的薄膜的材料為氮化硅，經(jīng)飽和工藝處理后的石墨舟在使用一些的次數(shù)后，硅片鍍膜后顏色差異會逐漸增加，不得不清洗石墨舟，洗去石墨舟上沉積的氮化硅薄膜，然而清洗石墨舟通常采用酸性藥液，不但除去了氮化硅薄膜，還對石墨舟造成腐蝕，從而導(dǎo)致石墨舟的壽命縮短，還增加了工藝步驟和成本。